Гафни тетрахлорид | HfCl4 нунтаг | CAS 13499-05-3 | үйлдвэрийн үнэ

Богино тайлбар:

Гафни тетрахлорид нь гафний ислийн урьдал материал, органик нийлэгжилтийн хурдасгуур, цөмийн хэрэглээ, нимгэн хальсан хуримтлал зэрэгт чухал ач холбогдолтой бөгөөд түүний олон талт байдал, технологийн янз бүрийн салбарт ач холбогдлыг онцлон тэмдэглэв.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Бидэн рүү имэйл илгээнэ үү

Бүтээгдэхүүний дэлгэрэнгүй

Бүтээгдэхүүний шошго

Бүтээгдэхүүний тодорхойлолт

Товч танилцуулга

Бүтээгдэхүүний нэр: Гафни тетрахлорид
CAS дугаар: 13499-05-3
Нийлмэл томъёо: HfCl4
Молекулын жин: 320.3
Гадаад төрх: Цагаан нунтаг

Тодорхойлолт

Зүйл	Тодорхойлолт
Гадаад төрх	Цагаан нунтаг
HfCl4+ZrCl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Өргөдөл

Гафний давхар ислийн урьдал бодис: Гафни тетрахлорид нь маш сайн диэлектрик шинж чанартай материал болох гафний давхар исэл (HfO2) үйлдвэрлэхийн тулд үндсэн материал болгон ашигладаг. HfO2 нь хагас дамжуулагчийн үйлдвэрлэлийн транзистор ба конденсаторын өндөр к-ийн диэлектрик хэрэглээнд өргөн хэрэглэгддэг. HfCl4 нь гафнийн давхар ислийн нимгэн хальс үүсгэх чадвартай тул дэвшилтэт электрон төхөөрөмж үйлдвэрлэхэд зайлшгүй шаардлагатай.
Органик синтезийн катализатор: Гафни тетрахлорид нь янз бүрийн органик синтезийн урвал, ялангуяа олефины полимержилтын катализатор болгон ашиглаж болно. Түүний Льюисийн хүчлийн шинж чанар нь идэвхтэй завсрын бүтээгдэхүүн үүсгэхэд тусалдаг бөгөөд ингэснээр химийн урвалын үр ашгийг сайжруулдаг. Энэхүү хэрэглээ нь химийн үйлдвэрт полимер болон бусад органик нэгдлүүдийг үйлдвэрлэхэд үнэ цэнэтэй юм.
Цөмийн хэрэглээ: Өндөр нейтрон шингээх хөндлөн огтлолтой тул гафни тетрахлорид нь цөмийн хэрэглээнд, ялангуяа цөмийн реакторын хяналтын саваа зэрэгт өргөн хэрэглэгддэг. Гафни нь нейтроныг үр дүнтэй шингээж чаддаг тул цөмийн эрчим хүч үйлдвэрлэх аюулгүй байдал, үр ашгийг дээшлүүлэхэд тусалдаг хуваагдлын процессыг зохицуулахад тохиромжтой материал юм.
Нимгэн хальсан бүрхүүл: Гафни тетрахлорид нь гафни дээр суурилсан материалын нимгэн хальс үүсгэхийн тулд химийн уурын хуримтлал (CVD) процесст ашиглагддаг. Эдгээр хальс нь микроэлектроник, оптик, хамгаалалтын бүрээс зэрэг олон төрлийн хэрэглээнд зайлшгүй шаардлагатай. Нэг төрлийн, өндөр чанартай хальсыг буулгах чадвар нь HfCl4-ийг үйлдвэрлэлийн дэвшилтэт процессуудад үнэ цэнэтэй болгодог.